EuroWire September 2020

Article technique

4 Références

durcissables par UV en mesurant la carte des modules et la carte d’adhésion à l’échelle nanométrique. Dans cette étude, la technologie AFM a été utilisée pour étudier la structure de phase de la pellicule dans l’Essai5. La Figure 3 montre une image de la phase AFM de la carte du module et de la carte d’adhésion de la pellicule dans l’Essai5. Les caractéristiques morphologiques de phases séparées, constituées de domaines nanophasiques clairs et sombres, ont été observées sur les deux cartes. Les domaines brillants (domaines à module élevé) des cartes du module correspondaient aux domaines sombres (domaines d’adhésion plus faible). Sur la base de ce résultat, il a été supposé que ces domaines sont composés de séquences rigides de polyuréthane et d’acrylate. En revanche, les domaines sombres (domaines avec un module inférieur) dans les cartes de modules correspondaient à des domaines clairs (domaines avec une plus grande adhésion). Par conséquent, on a supposé que ces domaines étaient composés de segments de polyéther souple. 3 Conclusions Il a été constaté que la résistance à la traction de la résine uréthane acrylique à faible module durcissabale par UV était sensiblement affectée non seulement par le monomère acrylique difonctionnel mais aussi par l’oligomère uréthane acrylique. Les analyses mécaniques dynamiques ont suggéré la présence d’une phase séparée pour les pellicules avec une résistance à la traction supérieure par des courbes bimodales tanδ. Cependant, les courbes bimodales tanδ ne pouvaient à elles seules définir l’état de séparation des phases. Dans la présente étude, la technologie AFM a été appliquée pour confirmer les données détaillées de séparation de phase des pellicules de revêtement souple pour les fibres optiques. En conséquence, il a été constaté que la technologie AFM était adaptée pour afficher les morphologies des pellicules à séparation de phases avec un faible module de Young. Dans une prochaine étape, nous allons examiner la pellicule de l’Essai2 et expliquer le mécanisme par lequel la pellicule de l’Essai2 a une résistance mécanique similaire à celle de la pellicule de l’Essai5 malgré un module de Young plus faible. n

bibliographiques

[1] M. Mori, Z. Komiya, T. Ukachi, Radtech ’98 North America UV/EB Conference Proceedings, 328 (1998). Avec l’aimable autorisation de l’IWCS Cable & Connectivity Symposium, Charlotte, Caroline du Nord, États-Unis, septembre/ octobre 2019 .

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